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| 功率 | 見詳情kW | 類型 | 超聲波清洗機 |
|---|---|---|---|
| 生產能力 | 見詳情瓶/小時 | 適用瓶高 | 見詳情mm |
| 適用瓶徑 | 見詳情mm | 輸瓶帶高度 | 見詳情mm |
| 壓力 | 見詳情Mpa | 應用領域 | 環保,化工,電子/電池,綜合,半導體 |
| 用水量 | 見詳情噸/小時 | 重量 | 見詳情kg |
SEN日森 清洗機 設備投入更低
SEN日森 清洗機 設備投入更低
實驗室 PL 系列與大型流水線 PM 多燈機之間，研發 + 小型批量量產兩用機型，兼顧打樣與小批量連續生產，屬于桌面大功率頂配清洗機，帶旋轉樣品臺，均勻性遠超普通滑動 UV-434、PL 系列
核心優勢
大面積均勻照射，無邊緣衰減
單燈管往復掃描，整片工件照度高度一致，解決固定燈管四角能量弱的痛點，均勻度接近流水線設備，適合大尺寸基板、多片并排試樣。
占地遠小于傳送帶 PM 流水線設備
同等處理寬度，機身僅桌面大小，無需規劃產線工位，實驗室、小型中試車間直接擺放。
適配多規格批量試樣
220×320mm 大臺面，可一次性擺放多片 4 寸晶圓、光學鏡片、PCB 薄片，批量打樣效率高于 PL16/UV-434。
工藝靈活可調
掃描速度自由調節，慢速 = 深度清洗、快速 = 輕度改性，一套設備覆蓋輕度活化、厚膠剝離兩種工藝。
維護簡單
僅單支燈管，無多燈陣列、無傳送帶損耗件，耗材成本低于多燈 PM 流水線機型。
典型應用
光學行業：大尺寸玻璃、棱鏡、鏡頭模組鍍膜前活化，鏡頭粘接提升附著力；
半導體 / 微電子：4 寸及以下硅片、藍寶石、MEMS 器件有機殘膠去除、光刻膠薄層灰化；
新材料研發：PP、PTFE、PI 等難粘塑料表面親水改性，提升印刷、點膠、復合強度；
3C / 醫療精密件：柔性膜、微型塑膠件批量預處理；
電鍍行業：金屬基材電鍍前活化，杜絕鍍層脫落。
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