光電化學工作站采用閉環控制技術調節和調制光強和單色光，從而保證了光源的穩定性。在儀器匹配的光源內裝有光強傳感器，工作時系統自動比較并計算測得的實際光強與設定值的偏差并加以校正，這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產生的光強輸出誤差。不僅如此，儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數值校正光源，非常方便。該工作站負責控制、驅動激發光源，輸出強度調制光信號。
光電化學工作站是將光化學與電化學方法合并使用，以研究分子或離子的基態或激發態的氧化還原反應現象、規律及應用的儀器。光電化學工作站可用于研究光直接影響電極過程的電化學、用于光能與電能和化學能的轉換測量、光電化學電池的光電轉化測量、光電合成。利用光電化學原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡單的方法隨時消去信息。
線性掃描技術：線性掃描伏安法、循環伏安法、塔菲爾（Tafel）曲線測量、線性掃描溶出伏安法；脈沖技術：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；方波技術：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學功能)。
工作環境：
1）環境溫度：-15oC ～~ 45 oC
2）環境相對濕度：< 75%
3）儀器四周通風良好，空氣中不含腐蝕性氣體
4）儀器周圍無強電磁場干擾
5）電源電壓：AC220V（50Hz）±10%
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